Revolutionäres Cold Plasma für wirkungsvolle Kosmetik

Cold Plasma (auch Coldplasma oder Cold-Plasma) wird seit Mitte der 2010-er Jahre erforscht und erfolgreich in der Kosmetik eingesetzt. Die Wirkung von kaltem Plasma ist durch viele Studien belegt. So kooperiert beispielsweise das Universitätsklinikum Greifswald mit dem Leibniz-Institut für Plasmaforschung und auch die Universitäten in Berlin und Regensburg sind mit der Methodik beschäftigt. Vom Prinzip her ist Plasma ein Aggregatzustand, der fest, flüssig und gasförmig vorkommt. Wird einem gasförmigen Zustand Energie zugeführt, entsteht physikalisches Plasma, welches bei der Behandlung mit Cold Plasma zum Einsatz kommt. Cold Plasma kann auch extreme Hautsituationen lösen, wie zum Beispiel seborrhoische, zu Unreinheiten neigende Haut.

Die Möglichkeiten, Cold Plasma wirkungsvoll in der Kosmetik einzusetzen, sind zahlreich, denn es hat eine antibakterielle Wirkung und wirkt zudem stark keimreduzierend. Außerdem beschleunigt es deutlich die Wundheilung und erweist sich als entzündungshemmend. Ein weiterer Vorteil von Cold Plasma ist, dass es durch die Haut ins Gewebe eindringen kann, wodurch Sauerstoff gebildet wird. Dieser Ozon-Sauerstoff neutralisiert freie Radikale, bindet Giftstoffe und sorgt dafür, dass diese unschädlich werden. Die Sauerstoffanreicherung im Gewerbe fördert darüber hinaus die Anreicherung von Kollagen und Elastin, woraus sich verbesserte Zellregeneration und Zellteilung ergeben. Hier sehen die Behandlungsmöglichkeiten mit Cold Plasma und deren Wirkungen:

Cold Plasma kann als bahnbrechende Frischekur für die Haut bezeichnet werden und schafft eine Keimreduzierung von nahezu 99,9 Prozent der Bakterien, Viren und Pilze. Die Behandlung mit Cold Plasma ist schmerzfrei und kann in verschiedene Kosmetikbehandlungen eingebunden werden, wie beispielsweise bei der Anwendung von Ultraschall. Hinweis: Personen mit elektronischen Implantaten, bösartigen Tumoren, Chemotherapie, Schwangerschaft oder Epilepsie dürfen nicht mit Cold Plasma behandelt werden.

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